据日本冲绳科学时期大学院大学（OIST）官网最新报告，该校规划了一种极紫外（EUV）光刻时期，越过了半导体制造业的尺度边界。基于此规划的光刻竖立可收受更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一吉永はるか最新番号，从而裁汰资本并大幅擢升机器的可靠性和使用寿命。

　　在传统光学系统中，举例摄影机、千里镜和传统的紫外线光刻时期，光圈和透镜等光学元件以轴对称阵势陈设在一条直线上。这种轨范并不适用于EUV射线，因为它们的波长极短，大巨额会被材料收受。因此，EUV光使用新月形镜子换取。但这又会导致光辉偏离中心轴，从而点火垂危的光学特点并裁汰系统的合座性能。

　　为处分这一问题吉永はるか最新番号，新光刻时期通过将两个具有轻细中心孔的轴对称镜子陈设在一条直线上来收尾其光学特点。

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　　由于EUV收受率极高，每次镜子反射，能量就会削弱40%。按照行业尺度，轻熟女唯有苟简1%的EUV光源能量通过10面反射镜最终到达晶圆，这意味着需要十分高的EUV光输出。

　　比拟之下，将EUV光源到晶圆的反射镜数目放胆为所有这个词4面，就能有高出10%的能量不错穿透到晶圆，显贵裁汰了功耗。

　　新EUV光刻时期的中枢投影仪能将光掩模图像滚动到硅片上，它由两个反射镜构成，就像天文千里镜同样。团队称，这种竖立绵薄得令东说念主难以设想，因为传统投影仪至少需要6个反射镜。但这是通过重新想考光学像差矫正表面而收尾的，其性能已通过光学模拟软件考证，可保证温和先进半导体的坐蓐。团队为此规齐整种名为“双线场”的新式照明光学轨范，该轨范使用EUV光从正面映照平面镜光掩模吉永はるか最新番号，却不会侵犯光路。